Il est utilisé dans le traitement des cristaux d'arséniure de gallium (employés dans les téléphones mobiles, les lasers, etc.), comme agent de dopage dans les plaquettes de silicium et pour la fabrication de l'arsine gazeux (H3As), qui sert à produire les matériaux des superréseaux et les circuits intégrés hautes performances.

它被用于加工砷化镓晶体（在话、激光器等中使用），为硅晶片的一种掺制造可用于制造超晶格物质高性能集成路的砷气体（H3As）。